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设备详细介绍
电子束蒸发镀膜仪
E-Beam Vapor System
发布时间:2013-01-23 |
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型
号:
Auto 500
功
能:
各种高熔点金属和非金属薄膜的蒸镀
Deposition of metal films with high melting points and non - metal films
各种多层膜,包括光学膜、介质膜和电极膜的蒸镀
Deposition of multi- layer films, including optical, dielectric and electrode films
主要配置:
载片
(Wafers)
:
直径
小于
100mm
的各种基片
(up to 100 mm wafers)
电子枪功率
(Power of electron guns)
:
3 kW
,
5 kV
极限真空
(
Ultimate vacuum)
:
5 ×10
-5
Pa
基片最高温度
(Temperature available): Temperature of cooling water up to 250 ℃
坩埚溶积
(Volume of crucibles)
:
4 cm
3
薄膜均匀度
(Uniformity)
: <
5%
技术特点:
基片水冷,可低温蒸镀
Substrate cooling, and low temperature deposition
capability
可实现晶粒细化蒸镀
Grains refining deposition capability
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